ARUAL-Tech

Main menu:

Источники компании MANTIS DEPOSITION

Источник нанокластеров NanoGen50

Использование в источнике нанокластеров NanoGen50 уникального источника высокого давления для генерирования нанокластеров в пределах области конденсации, позволяют создавать нанокластеры в виде четкого пучка, которые могут быть направлены к подложке для осаждения или герметизации.
Совместно с источником возможно использование квадрупольного масс-спектрометра MesoQ, что позволяет анализировать и далее фильтровать пучок нанокластеров с пропускной способностью до 106 а.е.м.
Пропускная способность 2% в режиме фильтрования, позволяет достигнуть точного формирования рисунка.

Открыть брошюру на английском языке в pdf формате

RF атомарные источники серии MATS

Источники RF атомов с большим успехом использовались во многих процессах роста пленок, типа GaN, GaInNAs, ультратонких Al2O3, high-K диэлектриков и используются в широком диапазоне других областей (элементы памяти, каталитические пленки и для очистки поверхностей атомами водорода).
Источник может быть оборудован монитором эмиссии плазмы и атомарным линейным фильтром для оптимизации плазменных состояний для атомарной генерации потока. Эта опция может быть далее расширена, путем подключения миниспектрометра для определения размеров относительно интенсивности всех эмиссионных линий в плазме.

Открыть брошюру на английском языке в pdf формате

Электронно-лучевые испарители серии EV

Мини испарители серии EV изготовлены из высококачественных UHV совместимых материалов. Окружение испарителя эффективно охлаждается, что позволяет всем компонентам, за исключением нити накала и исходного материала, поддерживать температуру близкую к температуре окружающей среды, тем самым гарантирует незначительную дегазацию на протяжении проведения всего процесса. Все источники укомплектованы контроллером потока.

Открыть брошюру 1 на английском языке в pdf формате

Открыть брошюру 2 на английском языке в pdf формате

Источники RF ионов серии RFMax

Серия RFMax разработана специально для применения с высокой текущей плотностью и низкими уровнями загрязнения. Плазма полностью содержится в пределах высоко чистой керамической зоны, что позволяет свести к минимуму металлические загрязнения. Для ускорения ионов по направлению к цели, в источниках используется двойная или тройная решетчатая система. Конфигурация решетчатой системы спроектирована таким образом, чтобы гарантировать максимальную пропускную способность и продлить долговечность срока службы решетки.

Открыть брошюру на английском языке в pdf формате

Магнетронные источники серии CUSP

Магнетронные источники серии CUSP разработаны для высокоэффективного нанесения на большие участки поверхности. Все источники содержат встроенную подачу газа, позволяющую повышать локальное давление, для немедленного воздействия на мишень.
Возможность использования источников в RF и DC режимах, различные варианты крепления и выбор между сбалансированными или не сбалансированными магнитами делают источники CUSP еще более универсальными.

Открыть брошюру на английском языке в pdf формате