Main menu:
КОМПЛЕКС ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ИЗМЕРЕНИЙ ПАРАМЕТРОВ МЭМС/НЭМС. МГТУ им. Баумана
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ
по формированию требований к материально-техническому оснащению учебного процесса бакалавров и магистров по профилю подготовки «Наноинженерия».
по курсу «ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В НАНОИНЖЕНЕРИИ».
Анализ отказов с применением плазмо-химического травления. Chipworks, USA
RIE и PECVD процессы на установках ORION PECVD и Phantom RIE. University of Alberta. USA
Травление платины. Trion Technology, USA
Травление кремния. Trion Technology, USA
Травление полупроводниковых компаундов. Trion Technology, USA
ПЕРЕПЕЧАТКА И ОПУБЛИКОВАНИЕ ДАННЫХ МАТЕРИАЛОВ
ВОЗМОЖНО ТОЛЬКО ПРИ ПОЛУЧЕНИИ РАЗРЕШЕНИЯ
ООО "АРУАЛ-ТЕХ" И С СЫЛКОЙ НА ИСТОЧНИК!