ARUAL-Tech

Main menu:

Система плазменной обработки с системой вакуумной загрузки для полупроводниковой отрасли

TITAN

titan
Компактная, автоматическая система плазменной обработки с системой вакуумной загрузки для полупроводниковой отрасли поставляемая в различных конфигурациях:

- Реактивно-ионное травление RIE
- Индуктивно-связанная плазма высокой плотности (HDICP) или
- Плазмохимическое осаждение из паровой фазы (PECVD)

Система может использоваться, как для одиночных образцов, так и для целых партий.

Применение в травлении

GaAs, AlGaAs, GaN, InP, Al, Cr и другие материалы, требующие как коррозийной, так и не коррозийной химии.

Применение в травлении

Диоксид кремния, Нитрид кремния, Оксинитрид и другие материалы.

Основные характеристики

Высокая производительность

Вакуумная подача кассет VCE

Небольшой размер

Транспортировочный модуль подложек

Возможность встраивания в чистую комнату

ПО совместимое с MS Windows

Сенсорный 15” ЖК монитор

Возможность обработки одиночных образцов или партий (3” - 300 мм)

Одиночные вакуумные кассеты с ручной заслонкой

Картография подложки.

Вместимость 4x3”; 3x4”; 7x2”

Открыть брошюру на английском языке в pdf формате